피에스케이 반도체소자 제조 관련 특허취득

입력 2007-12-05 14:25

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이채용 기자

피에스케이는 반도체 소자 제조 공정 중 자연산화막을 효과적으로 제거하고, 자연산화막의 재성장을 방지할 수 있는 반도체 소자의 제조방법에 대한 특허를 획득했다고 5일 공시했다.

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