테스, 대면적 기판처리 장치 관련 특허권 취득

입력 2015-09-09 15:49

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남주현 기자

테스는 대면적 기판처리 장치 관련 특허권을 취득했다고 9일 공시했다.

회사측은 "상기 특허는 대면적 PECVD 장비에 적용되는 기술로 반응가스를 분사하여 처리하는 디퓨져와 샤워 헤드를 일대일로 대응하여 반응가스를 균일하게 분사할 수 있다"며 "샤워 헤드들의 열팽창 비율을 감소시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다"고 밝혔다.

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