[컨콜]삼성전자, 올해 시설 투자 작년 수준… 23조8000억

입력 2014-01-24 09:49

송영록 기자

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삼성전자는 24일 작년 4분기 실적 컨퍼런스콜에서 “올해 시설투자 계획은 아직 확정되지 않았으나 전년과 유사한 수준의 투자가 예상된다”며 “사업별로도 전년과 큰 변동이 없을 것”이라고 밝혔다. 삼성전자는 지난해 23조8000억원의 투자를 집행했따. 반도체에는 낸드플래시 공장 건설과 D램과 시스템반도체 20나노급 공정전환에 주로 투자해 12조6000원을 집행했고, DP(디스플레이 패널)의 경우 LCD패널 공장 건설과 OLED패널 라인 증설 등에 5조5000억원을 투자했다.

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