삼성전자가 4분기 시설투자에 9조원을 추가 집행한다.
이명진 삼성전자 IR담당 전무는 25일 3분기 실적설명 컨퍼런스콜에서 “지난 상반기 9조원의 시설투자를 집행한데 이어 3분기까지 누계 15조원을 집행했다”면서 “올해 시설투자에 총 24조원을 투입하기로 밝혔던 계획을 이행할 것”이라고 밝혔다. 국내의 경우 D램 공정 전환, 20나노급 공정 전환, 연구소 건립 등에 주요 투자가 이뤄지며 국외는 중국의 시안 반도체 공장 건설과 쑤저우 LCD 공장에 투자할 계획이다.
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