[종합] SK하이닉스, 첫 EUV 공장 M16 준공…D램·낸드 두 토끼 잡는다

▲SK하이닉스는 1일 경기도 이천 본사에서 M16 준공식을 개최했다. 총 3조5000억 원이 투입된 M16 공장은 SK하이닉스 최초 EUV(극자외선) 공정이 적용돼 차세대 D램을 생산한다. 최태원 SK그룹 회장이 인사말을 하고 있다. (사진=SK하이닉스)

SK하이닉스가 첫 EUV(극자외선) 장비가 도입된 반도체 라인을 준공하며, 차세대 D램 양산에 돌입한다. 인텔 메모리칩 부문 인수를 통한 낸드 사업 경쟁력 확보와 함께 메모리 반도체 시장 주도권을 더욱 공고히 한다는 계획이다.

SK하이닉스는 1일 경기도 이천 본사에서 M16 준공식을 개최했다. 이날 준공식은 코로나19 방역 수칙을 준수하기 위해 그룹 내 행사로 간소하게 진행됐다.

최태원 SK그룹 회장, 최재원 수석부회장, 조대식 SK수펙스추구협의회 의장, 박정호 SK하이닉스 부회장, 장동현 SK㈜ 사장, 이석희 SK하이닉스 CEO, 하영구 SK하이닉스 선임사외이사 등 16명은 현장에서 참석하고, 구성원과 협력회사 직원들은 화상연결을 통해 언택트로 행사에 참여했다.

최태원 회장은 이날 “반도체 경기가 하락세를 그리던 2년 전 우리가 M16을 짓는다고 했을 때 우려의 목소리가 많았다”며 “하지만 이제 반도체 업사이클 얘기가 나오고 있는 만큼, 어려운 시기에 내린 과감한 결단이 더 큰 미래를 꿈꿀 수 있게 해줬다”라고 소회를 밝혔다.

이어 최 회장은 “M16은 그동안 회사가 그려온 큰 계획의 완성이자 앞으로 용인 클러스터로 이어지는 출발점으로서 중요한 상징으로 남을 것”이라고 의미를 전했다.

SK하이닉스는 2018년 11월 M16 착공 이후 총 3조 5000억 원, 공사 인력 연인원 334만 명을 투입해 25개월 만에 준공했다. D램 제품을 주로 생산하게 될 M16은 축구장 8개에 해당하는 5만 7000㎡(1만7000여 평)의 건축면적에 길이 336m, 폭 163m, 높이는 아파트 37층에 달하는 105m로 조성됐다. SK하이닉스가 국내외에 보유한 생산 시설 중 최대 규모다.

특히 M16에는 SK하이닉스 최초로 EUV 노광 장비가 도입된다. SK하이닉스는 최첨단 인프라를 기반으로 이 팹을 차세대 성장동력으로 키워낼 계획이다. EUV 장비를 활용해 올해 하반기부터 4세대 10나노급(1a) D램 제품을 생산할 예정이다. 향후 이 장비의 활용도를 더 높여 메모리반도체 미세공정 기술 리더십을 강화할 방침이다.

SK하이닉스는 지난달 열린 4분기 실적발표 행사에서 “경기 이천에 준공하는 M16은 3개 층 구조로 만든 세계 최대 규모의 팹”이라며 “연말 D램 시장의 추이를 보면서 양산 계획을 가변적으로 가지고 갈 예정으로, 파일럿 테스트가 끝나는 시점인 올해 6월 양산에 들어가 연말까지 적절한 시설투자를 집행할 것”이라고 밝혔다.

▲SK하이닉스는 1일 미래 성장동력인 M16 팹의 준공식을 개최했다. 사진은 M16 전경 (사진제공=SK하이닉스)

M16 준공은 SK하이닉스가 2015년 이천 M14 준공식에서 밝힌 ‘미래비전’의 조기 달성이라는 점에서도 의미가 있다. 당시 SK하이닉스는 지속적인 반도체 산업 리더십 확보를 위해 2014년부터 10년 내 M14를 포함해 국내에 3개의 신규 팹을 구축하겠다는 계획을 발표한 바 있다. 이후 2018년 청주 M15에 이어 이번에 M16을 준공해 미래비전을 3년 앞당겨 완성했다.

이번 M16 공장 준공으로 SK하이닉스는 메모리 반도체의 두 축인 차세대 D램과 낸드플래시에서 확고한 경쟁력을 갖추게 됐다. 앞서 SK하이닉스는 지난해 인텔의 낸드플래시 사업 부문을 10조 원 규모에 인수하기로 하면서 낸드 사업 확대 발판을 마련했다.

회사 측은 “경쟁력 강화, 규모의 경제 조성 이외에도 이해도 높은 인력들을 단기간 확보하고 협력관계 구축했다는 측면에서 큰 의미가 있다”고 평가했다.

이석희 사장은 “M16은 EUV 전용 공간, 첨단 공해 저감 시설 등 최첨단 인프라가 집결된 복합 제조시설”이라면서 “향후 경제적 가치 창출은 물론, ESG(환경ㆍ사회ㆍ지배구조) 경영에도 이바지하는 한 단계 높은 차원의 생산기지가 될 것”이라고 말했다.