인베니아, 플라즈마 처리 안테나 장치 특허 취득

디스플레이 장비 전문기업 인베니아가 '유도 결합 플라즈마 처리장치용 안테나 조립체 및 이를 갖는 유도 결합 플라즈마 처리장치' 특허를 취득했다고 25일 밝혔다.

이번 특허는 건식식각장비 상하부 사이에 브릿지 안테나를 배치, 장비 내부 절연창 및 프레임바 등 필수 구성물과 안테나 간의 간섭을 최소화하고 연결 안테나 높이를 조절 가능하게 할 수 있다.

이는 공정공간 안에서 형성되는 플라즈마 균일도와 장비의 내구성이 향상되는 효과와 플라즈마 밀도의 정밀한 조절이 가능케 하는 기술이다. 인베니아는 현재 개발 중인 차세대 대면적 OLED 및 LCD용 건식식각장비에 적용할 예정이다.

건식식각장비는 박막트랜지스터(TFT) 기판 위에 증착된 금속 및 반도체층 등 불필요한 부분을 플라즈마를 이용해 정밀하게 깎아내는 것으로 LCD에 비해 OLED의 경우 더 높은 플라즈마 밀도와 고성능이 요구된다.

인베니아는 LG디스플레이와 중국의 디스플레이 패널 생산업체인 BOE, CSOT, HKC 등에 기판 건식식각장비를 공급하고 있으며 일본의 도쿄일렉트론(TEL)과 더불어 전세계적으로 대면적 LCD 및 OLED용 건식식각장비를 공급한 실적을 보유하고 있다.

회사 관계자는 "핵심 장치인 안테나를 자체 개발하여 식각 속도가 빠르고 균일성이 뛰어난 차세대 유도결합형플라즈마(ICP: Inductive Coupled Plasma) 방식 건식식각장비 개발에 기술 경쟁력을 확보하게 됐다"고 설명했다.

인베니아는 전세계적으로 대면적 OLED 패널 생산에 대한 투자가 증가함에 따라 차세대 장비 개발에 역량을 집중해 건식식각장비와 OLED생산 라인설비, 진공물류 라인설비, 봉지(Incap)설비 등 대면적 OLED용 장비 시장을 선점한다는 전략이다.

<용어 설명>

※유도결합형플라즈마(ICP) 방식 건식식각장비 : 기판에 TFT(박막트랜지스터) 회로 패턴을 만들기 위해 불필요한 부분을 깎아내는 식각공정에는 용액의 화학적반응에 의한 습식식각과 가스의 물리/화학적반응에 의한 건식식각공정이 있음, ICP방식 건식식각장비는 코일형태의 안테나에 RF전류를 흘려서 이로 인해 형성된 전기장이 공정공간 내에 주입된 가스의 흐름을 유도하여 기판의 표면과 충돌시켜 식각공정을 수행하는 특징이 있음

※절연창 : 유전체창 또는 윈도우(Window)라고도 하며, 주로 공정공간 상부의 안테나와 프레임 사이에 위치하여, 공정 중 발생한 유도전계를 챔버로 투과시키는 한편 안테나, 가스주입관 등 상부 부품을 보호하는 역할을 하며 유도전계에 영향을 주지 않는 석영이나 세라믹 판재형태로 구성됨

※프레임바 : 공정챔버 내 공정공간의 상부에서 유전체창을 지지하는 금속성 구조물로 대체로 열전도성이 우수한 알루미늄 등의 소재로 이루어짐, 대면적기판에 대응하기 위해 건식식각장비가 대형화됨에 따라 소재 특성 상 크기가 대형화되는 데 한계가 있는 유전체창이 윈도우(Window) 형태로 다수 설치되는데, 이를 지탱하기 위하여 상부 프레임은 유전체창의 수 만큼 각 프레임바에 의해 여러 구역으로 구획되어 격자 패턴 형태로 구성되는 것이 일반적임.