테스, '실리콘산화막의 선택적 식각 방법' 특허권 취득

입력 2018-08-31 10:45

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테스는 '실리콘산화막의 선택적 식각 방법' 특허권을 취득했다고 31일 공시했다.

회사측은 "식각 선택비 및 식각량을 현저히 증가시키고, 공정의 단순화 및 공정 재현성에 우수한 장점 있다"며 "장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력이 강화에 활용할 계획"이라고 밝혔다.

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