테스, 대면적 기판 처리 장치 특허 취득

입력 2013-05-28 10:50

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이미정 기자

테스는 28일 기판의 대면적화에 따른 반응 챔버의 공간적 제약을 제거할 수 있는 대면적 기판 처리 장치 관련 특허를 취득했다고 공시했다.

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