아토는 13일 CVD 챔버의 세정 장치 및 방법 특허를 취득했다고 밝혔다.
아토 관계자는 "CVD챔버 세정에 있어 기존 삼불화질소(NF3)를 사용하던 방법에서 산화질소(NO)계열가스를 일정비율 첨가하여 화학반응 시킴으로써 CVD챔버의 세정 효율을 향상시킨다"라고 설명했다.
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아토, CVD 챔버 세정 장치 및 방법 관련 특허 취득
- 대표이사
- 조남성, 장성대 (각자대표이사)
- 이사구성
- 이사 8명 / 사외이사 3명
- 최근 공시
- [2025.12.17] 단일판매ㆍ공급계약체결
- [2025.12.15] 주주명부폐쇄기간또는기준일설정
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