▲아일랜드 레익슬립(Leixlip) 소재 인텔 팹34 클린룸 (자료제공=인텔코리)
인텔이 유럽 아일랜드 공장 팹34에서 극자외선(EUV) 기술로 7나노미터(㎚)급 4공정을 통한 제품을 생산한다고 4일 밝혔다.
이는 유럽에서 대량 제조(HVM)에 EUV를 사용하는 최초 사례다. 통상 EUV는 7㎚ 이하 초미세 반도체 생산에 사용된다. 인텔은 이러한 4공정을 통해 모바일용 중앙처리장치(CPU) '메테오레이크'를 양산한다는 계획이다.
앞서 인텔은 2025년까지 △인텔7(10㎚) △인텔4 △인텔3(4㎚) △인텔 20A(2㎚급) △인텔 18A(1.8㎚급) 등 다섯 개 공정을 완성하겠다는 목표를 제시했다. 이번 공정을 바탕으로 향후 초미세 기술 개발에 탄력을 받을 전망이다.
키반 에스파르자니 인텔 수석부사장 겸 최고글로벌운영책임자는 "인텔 4공정 기반 제조 역량을 팹34에 도입함으로써 아일랜드와 유럽에 최고의 결과를 제공할 것"이라고 말했다.
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