시노펙스, 국내 최초 100나노미터 멤브레인 필터 개발

입력 2014-06-18 12:32

시노펙스가 국내 기업으로는 처음으로 100나노미터(nm)의 멤브레인 필터 개발에 성공했다고 18일 밝혔다.

이번에 개발에 성공한 100nm 멤브레인 필터는 자체 기술력으로 PP(폴리프로필렌)의 소재를 사용해 개발, 머리카락 굵기의 천분의 일 크기를 여과 할 수 있는 초정밀 멤브레인 필터이다.

100nm급의 멤브레인 필터는 초미세 선폭을 구현해야 하는 반도체 및 OLED 등 디스플레이 제조 공정에 적용되고 있다.

특히 시노펙스가 국산화한 100nm 멤브레인 필터는 고객사의 국산화 요청에 따라 개발 단계부터 고객사와 각종 테스트를 통해 성능 검증을 완료한 제품으로 외산필터 대비 동일한 여과성능과 원가경쟁력을 갖추고 있어 높은 시장성을 확보하고 있는 것이 특징이다.

그 동안 고가의 외산필터를 사용하던 반도체, 디스플레이 업계에서는 시노펙스가 국산화한 100nm 멤브레인 필터를 적용하게 되면 외산필터 대체 효과로 인해 30%의 원가 절감이 가능하다는 분석이다.

시노펙스는 이번 100nm 멤브레인 필터 개발을 통해 기존 CCSS, POU 등 반도체 분야 이외에 슬러리, 디스플레이 산업까지 멤브레인 필터 적용영역을 확대한 것으로 사업 경쟁력을 대폭 강화하고 있다.

손경익 시노펙스 대표는 “다양한 산업에서 수입에 의존하는 고가의 외산 필터의 국산화를 통해 국내 산업체의 원가점감에 기여하겠다” 고 말했다.