우리로광통신은 평면광도파로소자의 반사면 형성 방법에 관한 특허권을 취득했다고 16일 공시했다.
회사 측은 “식각되는 부분의 폭에 비례해 깊이가 깊어지는 특성을 이용, 반사면을 형성해 공정시간과 제조원가를 절감할 수 있다”며 “스플리터에 적용될예정”이라고 말했다.
우리로광통신은 평면광도파로소자의 반사면 형성 방법에 관한 특허권을 취득했다고 16일 공시했다.
회사 측은 “식각되는 부분의 폭에 비례해 깊이가 깊어지는 특성을 이용, 반사면을 형성해 공정시간과 제조원가를 절감할 수 있다”며 “스플리터에 적용될예정”이라고 말했다.