참엔지니어링, 플라즈마 처리 장치 특허권 취득

입력 2013-01-09 14:18

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이미정 기자

참엔지니어링은 9일 기판 공정시 생산시간과 비용을 줄일 수 있는 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법과 관련된 특허권을 취득했다고 공시했다.

회사 측은 이번 특허기술을 활용해 반도체 생산 관련 장비의 경쟁력을 강화할 방침이라고 밝혔다.

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