에스엔에스텍은 8일 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 및 그 제조 방법에 대한 특허권을 취득했다고 공시했다.
회사측은 "위상반전 블랭크 마스크 및 포토마스크 특허로서 기술 경쟁력을 향상시킬 수 있다"고 밝혔다.
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