테스, 기판 처리 장치 특허 취득

입력 2012-04-17 15:07

  • 작게보기

  • 기본크기

  • 크게보기

구성헌 기자

테스는 17일 기판 처리 장치와 관련된 특허를 획득했다고 공시했다.

회사 관계자는 “이번 특허는 고온 공정을 수행하는 경우에도 하부 패널의 변형에 의한 편평도 저하를 감소시킬 수 있으며 이를 통해 기판 처리 공정의 균일도 및 신뢰도를 향상시킬 수 있는 이점이 있다”고 말했다.

(주)테스 (095610)
대표이사
주숭일, 이재호 (각자 대표이사)
이사구성
이사 4명 / 사외이사 1명
최근 공시
[2026.02.06] 매출액또는손익구조30%(대규모법인은15%)이상변동
[2026.02.05] 임원ㆍ주요주주특정증권등소유상황보고서
  • 좋아요0
  • 화나요0
  • 슬퍼요0
  • 추가취재 원해요0
주요뉴스
많이 본 뉴스
댓글
0 / 300