테스는 실리콘 산화막의 건식 식각 방법에 대한 특허권을 취득했다고 3일 공시했다.
회사 측은 “기판상에 파티클이 형성되는 것을 방지할 수 있으며 식각 효율성을 극대화 하여 공정 비용을 절감할 수 있는 이점이 있다”며 “장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화에 힘쓰겠다”고 말했다.
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