테스, 건식 식각 방법 특허 취득

입력 2012-04-03 14:44

  • 작게보기

  • 기본크기

  • 크게보기

테스는 실리콘 산화막의 건식 식각 방법에 대한 특허권을 취득했다고 3일 공시했다.

회사 측은 “기판상에 파티클이 형성되는 것을 방지할 수 있으며 식각 효율성을 극대화 하여 공정 비용을 절감할 수 있는 이점이 있다”며 “장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화에 힘쓰겠다”고 말했다.

  • 좋아요0
  • 화나요0
  • 슬퍼요0
  • 추가취재 원해요0
주요뉴스
댓글
0 / 300
e스튜디오
많이 본 뉴스
뉴스발전소