원익아이피에스, 국내 특허 획득

입력 2012-04-03 14:07

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원익아이피에스는 하부주입 RPG 세정용 공정 챔버에 대한 국내 특허를 획득했다고 3일 공시했다.

회사 관계자는 “이번 특허는 공정 챔버 내부(하부)를 세정하기 위해 별도의 세정가스 분사부를 갖는 공정 챔버다”며 “이를 활용해 당사 반도체 장비에 적용하여 경쟁력을 강화시키겠다”고 말했다.

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