테스는 기판 처리 장치와 관련된 특허를 취득했다고 11일 공시했다. 회사 측은 이 특허에 대해 “반응 챔버 내부에서 공정 가스를 효율적이면서도 신속하게 배기시켜 공정의 효율성이 향상되고 전체 공정에 소요되는 시간이 감소되며, 잔류 가스를 감소시켜 파티클(Particle) 발생을 억제할 수 있다”며 “장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화에 활용할 계획”이라고 밝혔다.
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