테스는 23일 기판처리장치에 대한 특허권을 취득했다고 공시했다.
회사측은 “모든 기판이 일정한 양과 시간 동안 공정가스에 노출되는 구조를 형성함으로 기판에 증착되는 박막의 균일도가 향상되는 장점이 있다”고 설명했다.
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