동진쎄미켐은 지난 8월4일 미국에서 술포닐기를 포함하는 포토레지스트 모노머, 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 관련 특허권을 취득했다고 13일 밝혔다.
회사 측은 향후 포토레지스트 판매 확대에 기여할 것이라고 전했다.
동진쎄미켐은 지난 8월4일 미국에서 술포닐기를 포함하는 포토레지스트 모노머, 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 관련 특허권을 취득했다고 13일 밝혔다.
회사 측은 향후 포토레지스트 판매 확대에 기여할 것이라고 전했다.