동진쎄미켐, 美 포토레지스트 조성물 특허권 취득

입력 2009-10-13 14:48

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동진쎄미켐은 지난 8월4일 미국에서 술포닐기를 포함하는 포토레지스트 모노머, 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 관련 특허권을 취득했다고 13일 밝혔다.

회사 측은 향후 포토레지스트 판매 확대에 기여할 것이라고 전했다.

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