에스앤에스텍, 일본 호야에 특허무효소송 최종 승소

입력 2009-04-01 14:02

반도체 및 TFT-LCD용 블랭크마스크 전문업체인 에스앤에스텍은 특허법원의 위상시프트 블랭크마스크 특허무효 판정에 대한 일본 호야(HOYA) 측의 상고를 지난달 26일 대법원이 기각, 호야와의 특허무효소송에서 최종 승소했다고 1일 밝혔다.

약 3년 4개월 동안 진행된 특허소송에서 에스앤에스텍이 최종 승소함에 따라 현재까지 일본업체가 독점하고 있던 고부가가치 위상시프트 블랭크마스크 시장에 본격적으로 진출할 수 있는 전기가 마련했다.

이번에 무효 처리된 호야의 특허는 반도체 제조 시 패턴의 정밀도를 획기적으로 향상시킬 수 있는 하이엔드급 위상시프트 블랭크마스크에 관한 특허이다.

위상시프트 블랭크마스크는 반도체 집적도가 향상됨에 따라 반도체 소자의 고해상도를 구현할 수 있는 필수재료로 그 수요가 지속적으로 증가하고 있다.

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