테스는 2일 기존 반도체 장비(CVD, ETCH)경쟁력 강화와 반도체 및 태양전지 제조장비 개발에 활용, 기술경쟁력 및 원가경쟁력 향상을 위해 삼성전자로부터 반도체 제조용 건식 식각 장치 및 이를 이용한 식각량 모니터링 장치, 막질개선을 위한 반도체 제조용 진공 장치, 웨이퍼 습식 처리 장치 및 그 세정 방법, 플라즈마 처리 장치, 건식식각설비의 식각량 제어 장치에 대한 특허권 양수를 결정했다고 밝혔다.
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테스는 2일 기존 반도체 장비(CVD, ETCH)경쟁력 강화와 반도체 및 태양전지 제조장비 개발에 활용, 기술경쟁력 및 원가경쟁력 향상을 위해 삼성전자로부터 반도체 제조용 건식 식각 장치 및 이를 이용한 식각량 모니터링 장치, 막질개선을 위한 반도체 제조용 진공 장치, 웨이퍼 습식 처리 장치 및 그 세정 방법, 플라즈마 처리 장치, 건식식각설비의 식각량 제어 장치에 대한 특허권 양수를 결정했다고 밝혔다.