코스피 상장기업 후성은 반도체 특수가스 생산시설에 대한 내용을 27일 공시했다.
이번 신규시설투자는 전방 반도체 산업의 성장에 따른 수요 증가에 적극적으로 대응하기 위함을 목적으로 하고 있으며, 투자 기간은 2017년 12월 1일부터 2018년 12월 31일까지다.
총투자금액은 554억 원으로 자기자본 대비 33.91%의 비중을 차지하는 규모다.
한편, 27일 현재 후성은 전 거래일 대비 0.48%(50원) 오른 1만500원에 장을 마감했다.
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