SK하이닉스는 26일 열린 작년 4분기 실적 컨퍼런스콜에서 "올해 투자금액은 7조원 수준으로 상당 부분을 추가 클린룸 건설과 관련 인프라에 투자할 것"이라며 "이를 제외한 투자 금액은 비슷하다"고 밝혔다.
이어 "D램 투자는 전년 대비 감소하고, 3D 낸드 플래시 생산능력(케파) 증가를 위해 낸드 부문 투자는 전년 대비 증가할 것"이라고 덧붙였다.
SK하이닉스는 26일 열린 작년 4분기 실적 컨퍼런스콜에서 "올해 투자금액은 7조원 수준으로 상당 부분을 추가 클린룸 건설과 관련 인프라에 투자할 것"이라며 "이를 제외한 투자 금액은 비슷하다"고 밝혔다.
이어 "D램 투자는 전년 대비 감소하고, 3D 낸드 플래시 생산능력(케파) 증가를 위해 낸드 부문 투자는 전년 대비 증가할 것"이라고 덧붙였다.