표준연, 반도체 공정진단 워크숍 개최

입력 2007-06-22 10:11

한국표준과학연구원(원장 정광화)이 6월 26일(화) 표준연 기술지원동에서 제1회 반도체공정진단 워크숍을 개최한다.

이번 행사는 차세대 반도체 기술의 핵심이 되는 실시간 공정 모니터링 분석 진단기술 현황 및 기술교류를 위해 마련한 것으로, 관련 산학연 전문가들의 모임을 정례화한 것은 이번이 처음이다.

이번 워크숍에서는 ▲반도체공정진단 기술 현황 ▲화학원료물질(Precursor) 진단 ▲CVD/ALD 공정 및 플라즈마 진단 ▲오염입자 진단 및 관련 소프트웨어 개발 현황 등에 대해 집중 논의한다.

현재 우리나라 반도체 공정기술은 세계 최고 수준의 경쟁력을 갖고 있다. 반면 반도체 공정을 실시간으로 모니터링하고 분석하는 진단기술은 매우 취약한 실정이다.

미래 반도체 산업에서 경쟁력을 확보하기 위해서는 반도체 제조에 대한 실시간 진단 및 제어기술개발을 통해 생산시간을 단축하고, 수율향상을 이루어내는 것이 무엇보다 중요하다.

이에 세계 각국은 반도체 산업분야 선점을 위해 실시간 공정진단 기술 확보에 노력하고 있다. 하지만 이 분야의 기술개발은 아직 초기 단계인 만큼 연구역량을 얼마나 집중하느냐에 따라 관련 분야 산업의 미래 경쟁력이 결정될 것으로 예상된다.

이번 행사의 책임자 신용현 박사는 “그동안 국내 반도체 공정진단기술 관련 산학연 전문가들이 함께 모여 토론할 수 있는 자리가 없었다”며 “이 행사를 지속적으로 마련해 국내 반도체 기술 향상 및 장비 국산화를 이루는데 노력할 것이다”고 말했다.