테스, 반도체 장비 관련 특허 취득

입력 2015-04-14 14:08

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김경아 기자

테스는 14일 플라즈마 발생장치 및 이를 포함하는 박막증착용 반응 챔버에 대한 특허를 취득했다고 공시했다.

회사 측은 "이를 활용하면 원자층증착(ALD)시 공정의 수율 및 단차피복율 개선하고 기판상 박막 막질의 저하를 최소화할 수 있다"고 설명했다.

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