아토는 30일 가스분리형의 다수의 공동 전극을 이용한 샤워헤드와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
아토 관계자는 "멀티플 블록 스택의 구조를 가지는 샤워헤드이면서 이질성의 가스라도 공통의 분사구를 구비하여 적용 가능한 공정의 다양성과 공정의 효율성을 높였으며, 다수의 공동 전극을 통하여 높은 플라즈마 밀도를 얻을 수 있는 장점이 있다"고 설명했다.
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