에프에스티, 반도체 공정용 칠러 관련 특허 취득

입력 2006-11-28 12:53

김정화 기자

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에프에스티는 28일 고온용 및 저온용 열교환기를 구비한 반도체 공정용 칠러와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.

에프에스티 관계자는 "저온의 유체가 유입되는 제1유동관과 고온의 유체가 유입되는 제1유동관 내부에 위치하는 제2유동관을 구비하는 열교환기를 사용하여 열교환기의 스케일을 방지하는 반도체 공정용칠러"라고 설명했다.

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