아이피에스는 20일 주기적 펄스 플라즈마 원자층 증착장치 및 방법과 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
아이피에스 관계자는 "본 발명은 플라즈마 원자층 증착방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 실리콘 기판 상에 반도체 소자를 형성함에 있어 반응챔버에 인가되는 플라즈마 에너지를 최소화함으로써, 기판 상에 발생하는 손상을 줄일 수 있는 원자층 증착장치 및 방법에 관한 것"이라고 설명했다.
이어 "반응기체를 공급하는 주기마다 플라즈마 인가시점을 반응기체 공급시점보다 지연시킴으로써, 플라즈마 점화의 신뢰도와 플라즈마 발생의 재현성을 높이고, 또 순도가 높고 고밀도의 원자층 증착이 보다 낮은 온도에서 진행할 수 있는 장점이 있다"고 덧붙였다.
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