케이씨텍은 24일 세정입자(드라이아이스)를 분사하여 정밀부품을 세정하는 노즐과 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
케이씨텍 관계자는 "이번 발명은 CO2 가스를 단계적으로 가압해 상변화를 유도함으로써, 세정입자의 개체수와 그 입경을 증가시켜 세정효율을 향상시킬 수 있다"고 설명했다.
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