주식회사 피에스케이는 28일 플라즈마 처리장치와 관련된 특허를 취득했다고 밝혔다.
피에스케이 관계자는 "건식 식각 공정이 수행되는 공정챔버 등 플라즈마 처리장치를 갖춘 반도체 공정 장비에 이용되며, 플라즈마 처리장치 내 배플 플레이트에서의 국부적인 방전 현상을 방지하는 장치 및 방법에 관한 것"이라고 설명했다.
주식회사 피에스케이는 28일 플라즈마 처리장치와 관련된 특허를 취득했다고 밝혔다.
피에스케이 관계자는 "건식 식각 공정이 수행되는 공정챔버 등 플라즈마 처리장치를 갖춘 반도체 공정 장비에 이용되며, 플라즈마 처리장치 내 배플 플레이트에서의 국부적인 방전 현상을 방지하는 장치 및 방법에 관한 것"이라고 설명했다.