테스는 17일 기판 처리 장치와 관련된 특허를 획득했다고 공시했다.
회사 관계자는 “이번 특허는 고온 공정을 수행하는 경우에도 하부 패널의 변형에 의한 편평도 저하를 감소시킬 수 있으며 이를 통해 기판 처리 공정의 균일도 및 신뢰도를 향상시킬 수 있는 이점이 있다”고 말했다.
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테스, 기판 처리 장치 특허 취득
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