테스는 24일 플라즈마 처리장치에 관한 중국 특허를 취득했다고 밝혔다.
회사측은 상부 전극의 방해 없이 기판 위치를 정확히 알 수 있기 때문에 기판의 정렬 오차를 보다 줄일 수 있고 상부 전극과 하부 전극의 간격을 보다 정밀하게 제어할 수 있어 공정 효율을 극대화할 수 있는 특허라고 설명했다.
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[공시]테스, 플라즈마 처리장치 특허권 취득
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