동진쎄미켐, 美 포토레지스트 조성물 특허권 취득

입력 2009-10-13 14:48

  • 작게보기

  • 기본크기

  • 크게보기

고종민 기자

동진쎄미켐은 지난 8월4일 미국에서 술포닐기를 포함하는 포토레지스트 모노머, 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 관련 특허권을 취득했다고 13일 밝혔다.

회사 측은 향후 포토레지스트 판매 확대에 기여할 것이라고 전했다.

(주)동진쎄미켐 (005290)
대표이사
이준혁
이사구성
이사 4명 / 사외이사 1명
최근 공시
[2026.02.11] [기재정정]타법인주식및출자증권처분결정(자율공시)(종속회사의주요경영사항)
[2026.02.11] [기재정정]타법인주식및출자증권처분결정
  • 좋아요0
  • 화나요0
  • 슬퍼요0
  • 추가취재 원해요0
주요뉴스
많이 본 뉴스
댓글
0 / 300