케이씨텍은 4일 CMP용 슬러리 및 그의 제조방법과 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
케이씨텍 관계자는 "폴리에틸렌 아미드 또는 폴리아크릭 아미드와 동일 관능기를 갖는 양이온계 고분자를 사용하여, 연마선택비 및 질화막 연마속도 및 연마균일도가 우수한 특징이 있다"고 설명했다.
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케이씨텍, CMP용 슬러리 제조방법 관련 특허 취득
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케이씨텍은 4일 CMP용 슬러리 및 그의 제조방법과 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
케이씨텍 관계자는 "폴리에틸렌 아미드 또는 폴리아크릭 아미드와 동일 관능기를 갖는 양이온계 고분자를 사용하여, 연마선택비 및 질화막 연마속도 및 연마균일도가 우수한 특징이 있다"고 설명했다.