이천 SK하이닉스 D램 공장서 가스 누출로 2명 경상…"조치 완료, 정상 가동"

입력 2014-07-05 14:37수정 2014-07-05 14:46

SK하이닉스 이천 공장에서 가스 누출 사고가 발생했다.

5일 오전 11시 26분경 경기도 이천시 부발읍 SK하이닉스 공장 D램 반도체 공정라인에서 이산화규소 가스가 누츨돼 작업자 2명이 병원 치료를 받았다. 사고는 반도체 공정에 필요한 가스 공급배관 이음새에 생긴 틈으로 가스가 새어 나오며 발생했다.

이천소방서 관계자는 "부상자 2명은 두통과 구토 증세를 보였지만 의식이 있고 걸어서 병원에 들어가는 등 심각한 상태는 아닌 것으로 확인됐다"며 "작업장에 함께 있던 나머지 39명은 특별한 증세는 없지만 검진 차원에서 병원을 방문한 상태"라고 밝혔다.

이어 "이산화규소는 반도체 공정에 들어가는 불산이나 실란가스와 같이 인체에 치명적인 유해성은 없는 것으로 알려져 있다"고 덧붙였다.

SK하이닉스 공장 측은 사고 직후 부상자를 병원에 옮긴 뒤 가스 공급배관 이음새를 교체해 오후 1시 20분 경 조치를 완료했다.

SK하이닉스 관계자는 "현재 공장은 정상적으로 가동하고 있다"고 말했다.