에스앤에스텍은 29일 포토마스크 블랭크 및 포토마스크 관련 특허권을 취득했다고 30일 공시했다.
회사 측은 “이번 특허기술이 대면적 위상반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품에 대한 기술경쟁력 향상 및 회사의 새로운 성장동력이 될 것”으로 전망했다.
에스앤에스텍은 29일 포토마스크 블랭크 및 포토마스크 관련 특허권을 취득했다고 30일 공시했다.
회사 측은 “이번 특허기술이 대면적 위상반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품에 대한 기술경쟁력 향상 및 회사의 새로운 성장동력이 될 것”으로 전망했다.