에스앤에스텍, 일본 신에츠와 특허 로열티 계약 체결(상보)

입력 2009-05-18 13:40

에스앤에스텍이 일본 신에츠(ShinEtsu)와 블랭크마스크 및 포토마스크 제조방법에 관한 2건의 특허 로열티 계약을 체결했다고 18일 밝혔다.

에스앤에스텍은 신에츠에게 특허실시권을 부여하고, 신에츠로부터 향후 해당 특허가 사용된 제품 판매액의 일정비율을 로열티로 받게 된다.

에스앤에스텍이 보유한 2건의 특허는 45nm(나노미터) 이하 디바이스(Device) 제조에 필요한 차세대 블랭크마스크에 관한 기술로, 반도체용 차세대 블랭크마스크인 하드마스크(Hard Mask)에 적용된다.

블랭크마스크는 반도체 및 TFT-LCD 공정재료인 포토마스크의 원재료로 에스앤에스텍이 국산화하기 이전까지 일본에서 전량 수입해왔다.

에스앤에스텍은 이번 계약이 차세대 블랭크마스크 시장에서 주도권을 잡는 계기가 될 것이며, 세계적인 화학소재기업 신에츠와의 상호협력체계를 구축, 향후 에스앤에스텍의 고부가가치 제품 개발 및 경쟁력 향상에 큰 도움이 될 것으로 전망했다.

에스앤에스텍 남기수 사장은 "이번 계약은 일본이 독점하던 블랭크마스크 시장에 성공적으로 진출해 블랭크마스크 종주국으로부터 특허 로열티를 받게 된 쾌거"라고 말했다.