에스앤에스텍, 대한민국기술대상 10대 신기술로 선정

입력 2008-12-22 09:54

반도체 및 TFT-LCD용 블랭크마스크(Blank Mask) 전문업체인 에스앤에스텍이 22일 서울 그랜드인터컨티넨탈호텔에서 열린 '2008 대한민국기술대상' 시상식에서 10대 신기술 및 대한민국기술대상 지식경제부장관상을 수상했다.

에스앤에스텍은 2007년 세계 최초로 습식 식각이 가능한 새로운 개념의 TM(Transmittance Modulation) 블랭크마스크를 개발, 그 공로를 인정 받아 이 상을 수상하게 됐다.

블랭크마스크는 반도체 및 LCD 핵심재료인 포토마스크의 원재료로 일본에서 전량 수입해왔으나, 에스앤에스텍이 02년 반도체용 블랭크마스크를 개발한 데 이어, 04년 LCD용 블랭크마스크까지 개발, 국산화에 성공했다.

지식경제부와 한국산업기술재단은 2008년 7월부터 기술적 성과가 뛰어나고 국내 산업에 미치는 경제효과가 큰 우수 신기술 및 신제품을 선정, 총 33개 업체에 대한민국기술대상을 수여하고 그 중 10개 업체를 2008년 10대신기술로 선정했다.

대한민국기술대상은 국내 최고 권위의 기술관련 시상식으로 99년부터 매년 열리고 있으며, 10대신기술은 07년 처음 선정, 올해 두 번째 수상을 하게 됐다.