아토는 13일 CVD 챔버의 세정 장치 및 방법 특허를 취득했다고 밝혔다.
아토 관계자는 "CVD챔버 세정에 있어 기존 삼불화질소(NF3)를 사용하던 방법에서 산화질소(NO)계열가스를 일정비율 첨가하여 화학반응 시킴으로써 CVD챔버의 세정 효율을 향상시킨다"라고 설명했다.
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