주성엔지니어, HDP-CVD장치 관련 특허 취득

입력 2006-12-12 17:21

박인혜 기자 inhye@e-today.co.kr

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주성엔지니어링은 12일 부도체로 이루어진 샤워헤드를 구비하는 HDP-CVD장치와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.

주성엔지니어링 관계자는 "이번 발명은 HDP-CVD장치에 관한 것으로서, 부도체로 이루어진 평판형 샤워헤드가 반응챔버의 상부에 수평 설치되기 때문에 갭필링에 있어서 HDP내에 존재하는 양이온들의 수직방향으로의 큰 운동성과 HDP-CVD 특유의 갭필링 특성이라는 두가지 요소가 모두 가미되어 우수한 갭필링 특성을 얻을 수 있다"고 설명했다.

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